低压化学气相淀积系统进口须知
服务项目 |
进出口清关,报关报检,国际物流,环航报关 |
面向地区 |
全国 |
低压化学气相淀积系统（LPCVD，Low Pressure Chemical Vapor Deposition System）
设备名称：低压化学气相淀积系统
设备功能：把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入LPCVD设备的反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜。
主要企业（品牌）：
国际：日本日立国际电气公司、
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楚河
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